所谓照相法，就是在需要处理的设备表面，涂抹一层导电胶，再涂抹一层导光胶，表面再覆盖一个与成型要求一样轮廓的遮光板。
通过如同照相技术一样的曝光手段，选定区域的导电层与导光层之间电子交换深入，粘黏凝固。而未被选定区域，则仍保持原状，很容易就被清除，从而将物体加工成所需的形状。
在光刻技术成熟以前，晶体管元件的主要加工技术，就是照相法。
它对设备的要求不高（相对于这个时代来说），成本低廉，易于大批量生产。
唯一的缺陷，就是加工精度有限，最大精度只能达到几十微米，远远不能满足集成电路越来越高的集成度要求。
所以在光刻技术成熟以后，照相法很快就被淘汰，不再成为集成电路制备的主要手段。
但它并没被抛弃。
照相法仍然活跃在许多领域，应用于很多特种加工场所。并且在本世纪末，人们又通过深入研究照相法在显像管制备技术中心的应用，研发出了玻屏荧光组件的加工工艺，大大降低了显像管的生产成本。
白云天就是借鉴这一技术，用照相法来代替光刻机，制作遮掩层。此后的制造方法，则仍采用与光刻技术一样的工艺流程。
没有昂贵的光刻生产线，设备的制造成本、难度随之陡降。
至于照相法的精度有限……
拜托，一毫米就是一千微米，最大精度为几十微米的照相法，虽然做不了芯片，还不能做精度要求仅零点二三十微米的镂空孔洞？
它不光能做，还能在这样超微缩的孔洞镂刻中，制造出阶梯层，以进一步加大三原色光束的区隔、提高光亮度！
而照相法所需的部件中，其他设备都能自制，只有掩膜中华制造做不了。
光掩模是什么东西，就是用来遮掩曝光的玻璃板。
在一块玻璃基板上，预先喷溅了作为样本的镀铬线条，以阻隔曝光。
简单说，它就是母版。
它的线宽，直接决定了光刻设备能够制备多大集成度的芯片。
它的制造，同样需要光刻设备！
白云天就委托给了华越电子来制造。
虽然华越电子在投产以后，依然做不出更小线宽的掩膜，集成度始终提不高，还保留在五微米制程技术上，但是对于一个线宽宽度达到上百微米的掩膜，还是不费吹灰之力。
……
设备终于到齐，开始试生产时，大批的工程技术人员纷纷到场，观看设备的运行情况。
对于采用照相法制造荫罩板的新工艺，他们在经过理论探讨后，都认为绝对可行。但国际上都没采用这种方式，到底是不是可以，所有人心中都是忐忑不安。